Dry-etching equipment

Description

La consultation a pour objet la fourniture d’un équipement neuf de gravure ionique réactive par technique plasma haute densité ICP. Le marché comprend le transport, la livraison, l’assemblage sur site, les tests, la documentation et les prestations de formation des utilisateurs. La consultation a pour objet la fourniture d’un équipement neuf de gravure ionique réactive par technique plasma haute densité ICP. Le marché comprend le transport, la livraison, l’assemblage sur site, les tests, la documentation et les prestations de formation des utilisateurs. Le marché comprend 4 PSE obligatoires (le soumissionnaire aura obligation de présenter et de chiffrer ces prestations): — la PSE nº 1 porte sur l’acquisition d’un système optique permettant le suivi en profondeur de la gravure, — la PSE nº 2 porte sur l’adaptation d’un pompage primaire sec pour la chambre de gravure, — la PSE nº 3 porte sur la mise en place d’une vanne pendulaire entre la chambre de gravure et la pompe turbomoléculaire, — la PSE nº 4 porte sur l’extension de la garantie d’une durée égale à 12 mois. Le marché comprend 2 PSE facultatives portant sur les prestations suivantes (le soumissionnaire n'aura aucune obligation de présenter et de chiffrer ces prestations): — la PSE nº 5 porte sur le raccordement de l’équipement, — la PSE nº 6 porte sur la mise en place d’un contrat de maintenance à l’expiration de la garantie. Avant la signature du marché, le CNRS informe l’attributaire de son intention de retenir tout ou partie des PSE.