Microelectronic machinery and apparatus

Description

L'accord-cadre a pour objet l’acquisition, la livraison, l’installation et la mise en ordre de marche à poste d’une machine neuve de développement et de gravure de masque de lithographie optique ainsi qu’une formation à l’utilisation et la maintenance de 1er niveau et une formation complète à la sécurité des personnels. L'accord-cadre s’exécute au fur et à mesure de l'émission de bons de commande. — La notification de l’accord-cadre vaut commande de la fourniture, la livraison, l’installation et la mise en service de la machine de développement et de gravure de masque de lithographie optique ainsi que les formations; — Des bons de commande pourront être établis pour l’acquisition d’accessoires en cours d’exécution. Le CNRS/LAAS doit s’équiper d’une machine de développement et de gravure de masque de lithographie optique. Ce masque est en verre ou en quartz de forme carrée sur lequel a été déposée une couche de chrome et une couche de résine photosensible. La machine est dédiée à des traitements chimiques qui permettent de: — dissoudre localement avec une solution alcaline diluée la résine de masquage photo-dégradée précédemment par l’écriture laser; — graver à l’aide d’une solution acide les surfaces de chrome non recouvertes de résine. Une fois le procédé terminé, le masque récupéré est rincé et sec.