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Microelectronic machinery and apparatus and microsystems

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Value

202,550 EUR

Current supplier

CORIAL SAS

Description

Acquisition, livraison et installation d'une machine de gravure ionique réactive par plasma en mode de couplage capacitif (RIE-CCP) capable de réaliser des usinages aussi bien sur des substrats diélectriques (SiOx, SiNx) que sur des substrats semi-conducteurs (Si) ou sur des substrats durs à graver comme le LiNbO3 ou le PZT, avec une excellente verticalité des flancs (proche de 90 degrés) et une excellente sélectivité. Acquisition, livraison et installation d'une machine de gravure ionique réactive par plasma en mode de couplage capacitif (RIE-CCP) capable de réaliser des usinages aussi bien sur des substrats diélectriques (SiOx, SiNx) que sur des substrats semi-conducteurs (Si) ou sur des substrats durs à graver comme le LiNbO3 ou le PZT, avec une excellente verticalité des flancs (proche de 90 degrés) et une excellente sélectivité. L’équipement sera installé dans une salle blanche de classe ISO7 au laboratoire FEMTO-ST.

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