Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)

Description

Fourniture, livraison, mise en service d’une solution de positionnement de nano-matière, selon les caractéristiques décrits dans le CCTP joint à la consultation. L'Institut de physique et chimie des matériaux de Strasbourg (IPCMS) développe un procédé technologique permettant la structuration de nano dispositifs sous forme de nano piliers verticaux à partir d’hétérostructures (empilement sur substrat de couches minces/ultra-minces de métaux, oxydes et molécules). La particularité de ce procédé est sa compatibilité avec des matériaux sensibles aux solvants/eau/air (certaines molécules par exemple). Il faut donc préserver cette couche sensible d’une exposition à ces types d’environnements lors de la structuration technologique en nano dispositifs. Actuellement, les solutions industrielles de masquage à l’échelle nanométrique (ex: résine et lithographie électronique) requièrent l’utilisation de bains de solvants/développeur/eau/air etc. L’IPCMS souhaite ainsi acquérir une solution permettant le dépôt contrôlé, rapide, matriciel en surface, de nano-matière qui jouera le rôle de masque lors d’une étape ultérieure d’usinage ionique, puis d’encapsulation diélectrique. Cette nano-matière servant de masque doit soit pouvoir être retirée après ces étapes technologiques par un moyen n’impliquant pas de solvant, soit rester à demeure mais alors être électriquement conductrice. À terme, la solution de micro-positionnement de nano-matière retenue aura vocation à être technologiquement intégrée à un usineur ionique et un équipement de dépôt «atomic layer deposition». Afin de coupler ces équipements, et ainsi réguler l’environnement auquel est expose l’échantillon lors des étapes de 1) dépôt matriciel de nano-matière, 2) usinage ionique (sous vide secondaire), 3) encapsulation (sous vide secondaire à atmosphère contrôlée: SiO2 par pulvérisation cathodique, ou encore de HfO2 par «atomic layer deposition»), une solution possible est la boite à gants. La nano-matière peut être un polymère/résine, une nano goutte ou encore une nano sphère (ex: SiO2), qui doit résister à un vide secondaire. Afin de demeurer général, on précisera que les nano sphères peuvent être soit séchées (et alors en environnement contrôlé de type «boite à gants») soit conditionnées en solution diluée permettant le positionnement sur une surface d’une micro-goutte contenant, de manière idéale, une seule nano sphère. Toute solution permettant ce positionnement/contrôle de nano-matière sera retenue pour l’évaluation. L’échantillon ne doit pas être plongé dans un bain (solvants/eau etc.) pour réaliser la matrice (pas de lithographie). Les modalités de la consultation se basent sur une solution de positionnement matriciel de ces nano-sphères par une approche de type «micro-goutte», après des essais infructueux de positionnement par voie de microscope à force atomique (AFM), en raison de la lourdeur de la technique et des longs temps de positionnement/contrôle d’une nano sphère.