Elektronenstrahl-Lithografieanlage

Description

Die Universität Duisburg-Essen erforscht im Zentrum für Halbleitertechnik und Optoelektronik in Duisburg Materialien, Halbleitertechnologien und Modulintegration für Anwendungen in der Höchstfrequenzelektronik und in der Optoelektronik. Im ZHO wird zur Durchführung der Forschungsarbeiten eine durchgängige Prozesslinie in einem Reinraum bis Klasse 5 (ISO 14644-1) betrieben. Zur Untersuchung nanoskaliger Bauelemente wird eine höchstauflösende Elektronenstrahl-Lithografieanlage benötigt. Es soll eine Anlage beschafft werden, die den aktuellen Stand der Technik in Hinsicht auf maximale Auflösung und Positioniergenauigkeit darstellt. Die Anlage soll eine hohe Entwicklungsreife besitzen, die z.B. durch den Einsatz in Industrie und/oder Forschungsinstituten belegt werden kann. Ein hoher Automatisierungsgrad ist gefordert, um einen Mehrbenutzerbetrieb effektiv zu ermöglichen. Weitere Informationen entnehmen Sie bitte den Vergabeunterlagen. Lot 1: Die Universität Duisburg-Essen erforscht im Zentrum für Halbleitertechnik und Optoelektronik in Duisburg Materialien, Halbleitertechnologien und Modulintegration für Anwendungen in der Höchstfrequenzelektronik und in der Optoelektronik. Im ZHO wird zur Durchführung der Forschungsarbeiten eine durchgängige Prozesslinie in einem Reinraum bis Klasse 5 (ISO 14644-1) betrieben. Zur Untersuchung nanoskaliger Bauelemente wird eine höchstauflösende Elektronenstrahl-Lithografieanlage benötigt. Es soll eine Anlage beschafft werden, die den aktuellen Stand der Technik in Hinsicht auf maximale Auflösung und Positioniergenauigkeit darstellt. Die Anlage soll eine hohe Entwicklungsreife besitzen, die z.B. durch den Einsatz in Industrie und/oder Forschungsinstituten belegt werden kann. Ein hoher Automatisierungsgrad ist gefordert, um einen Mehrbenutzerbetrieb effektiv zu ermöglichen. Weitere Informationen entnehmen Sie bitte den Vergabeunterlagen.