Los 3 - Maskless Aligner

Description

Die Ausschreibung "08.21.O.03 / Los 3 - Maskless Aligner" stellt Los 3 von 3 Ausschreibungen des Forschungsprojektes "Ausbau der photolithographischen Basisinfrastruktur am Leibniz-IPHT (InfraLith)" dar. Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die maskenlose Photolithographie einen Maskless Aligner aus, welcher zur maskenlosen Belichtung von Photoresistschichten auf unterschiedlichen Substraten eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind, daß bei moderater Strukturauflösung im Resist (1 - 2 µm) hohe Schreibgeschwindigkeiten und damit kurze Waferbelichtungszeiten zur Verfügung stehen (< 3 h für 4“ Wafer) und die Belichtung auf bis zu 12 mm dicken Substraten erfolgen kann. Lot 1: Die Ausschreibung "08.21.O.03 / Los 3 - Maskless Aligner" stellt Los 3 von 3 Ausschreibungen des Forschungsprojektes "Ausbau der photolithographischen Basisinfrastruktur am Leibniz-IPHT (InfraLith)" dar. Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die maskenlose Photolithographie einen Maskless Aligner aus, welcher zur maskenlosen Belichtung von Photoresistschichten auf unterschiedlichen Substraten eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind, daß bei moderater Strukturauflösung im Resist (1 - 2 µm) hohe Schreibgeschwindigkeiten und damit kurze Waferbelichtungszeiten zur Verfügung stehen (< 3 h für 4“ Wafer) und die Belichtung auf bis zu 12 mm dicken Substraten erfolgen kann.