Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)

Description

System, das geeignet ist für — Ionenstrahlätzen (engl. Ion Beam Etching (IBE)) im Sinne von Sputterätzen mit Argon als Prozessgas, — reaktives Ionenstrahlätzen (engl. Reactive Ion Beam Etching (RIBE)) mit chlor- und fluorhaltigen Gasen, — Ionenstrahldeponieren (engl. Ion Beam Deposition (IBD)) über eine zweite Ionenstrahlquelle und einenTargethalter, — Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS). Kurzbezeichnung dieses Systems: IBE-IBD-SIMS-System. System, das geeignet ist für — Ionenstrahlätzen (engl. Ion Beam Etching (IBE)) im Sinne von Sputterätzen mit Argon als Prozessgas, — reaktives Ionenstrahlätzen (engl. Reactive Ion Beam Etching (RIBE)) mit chlor- und fluorhaltigen Gasen, — Ionenstrahldeponieren (engl. Ion Beam Deposition (IBD)) über eine zweite Ionenstrahlquelle und einenTargethalter, — Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS). Kurzbezeichnung dieses Systems: IBE-IBD-SIMS-System.