Fornitura di un sistema in ultra-alto vuoto per epitassia da fasci molecolari (MBE) su piccoli campioni XPS/UPS, ARPES

Description

Il sistema in ultra-alto vuoto ha lo scopo di crescere film sottili ed eterostrutture per epitassia da fasci molecolari su substrati adeguatamente preparati. In-situ, i campioni devono essere caratterizzati dal punto di vista strutturale, chimico e delle bande elettroniche mediante diffrazione di elettroni a bassa energia (LEED, spettroscopia di fotoemissione nei raggi X (XPS), spettroscopia di fotoemissione con fotoni UV risolta in angolo ed energia (ARPES). Lot 1: Il sistema fornito dovrà essere in grado di prelevare i campioni cresciuti nella macchina MBE esterna (da qui in avanti in avanti chiamata MBE-calcogenuri), connessa tramite un opportuno sistema in ultra-alto vuoto che comprenda un trasferitore lineare. Il trasferitore deve essere posizionato nella camera di preparazione, in modo tale da permettere il successivo trasferimento dei campioni nella camera di analisi mantenendoli sempre in ultra-alto vuoto, evitando il passaggio attraverso la camera di introduzione. Infine, il sistema dovrà prevedere un opportuno sistema di cottura delle singole camere, automatizzato, rimovibile e controllabile via software, che permetta di raggiungere le condizioni di ultra-alto vuoto richieste. Finanziato con i fondi del NextGenerationEU, PNRR, CUP B53C22004310006, Progetto con titolo Nano Foundries and Fine Analysis Digital Infrastructure (NFFA-DI)