FORNITURA DI UN SISTEMA PER PULSED LAYER DEPOSITION (PLD)

Description

Il sistema di deposizione laser pulsata (“Pulsed Laser Deposition”, d’ora in avanti PLD) andrà a fare parte del parco macchine installato nel centro PoliFAB del Politecnico di Milano, permettendo di soddisfare le esigenze degli utenti interni, esterni (attraverso il progetto NFFA_DI) e le partnership industriali. Lot 1: Il sistema dovrà consentire la deposizione di materiali complessi, tipicamente ossidi e/o nitruri, in vuoto (Ultra High Vacuum, d’ora in avanti UHV) o in ossigeno o azoto e su campioni fino a 4 pollici. Il sistema dovrà disporre di una camera per caricare e scaricare i campioni senza dover ventilare la camera principale (camera di “load lock”, d’ora in avanti load lock). Il caricamento/scaricamento dei campioni dovrà essere manuale, mentre la gestione del vuoto, del laser, e dell’intera ricetta di deposizione del materiale dovrà essere automatizzato (controllato da software), una volta che l’utente avrà scelto tutti i parametri di deposizione. Il load lock (o in alternativa la camera di deposizione) dovrà consentire anche di trasferire (inserimento/estrazione) campioni di tipo Omicron (“Omicron Flag-type wafer carrier”) verso una “valigia da vuoto” (non inclusa nel sistema di PLD) e sul porta-campioni della PLD. Finanziato con i fondi del NextGenerationEU, PNRR, CUP B53C22004310006, Progetto con titolo Nano Foundries and Fine Analysis Digital Infrastructure (NFFA-DI)