Flexibel einsetzbare Atomlagen-Depositionssystem mit Plasmaunterstützung (PEALD)

Description

Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu ist vorgesehen, ein flexibel einsetzbares Atomlagen-Depositionssystem mit Plasmaunterstützung (PEALD) für die atomlagengenaue Abscheidung dünner Filme von Metallen, Metall-Oxiden und -Nitriden sowie optional -Sulfiden definierter Stöchiometrie für Anwendungen als Tunnelbarrieren oder Elektroden in memristiven und kryoelektronischen Bauelementen, als Ferroelektrika und als 2D-Materialien sowie zur wissenschaftlichen Untersuchung der Abscheidemechanismen und zur Prozessentwicklung zu beschaffen. Lot 1: Benötigt wird ein flexibel einsetzbares Atomlagen-Depositionssystem mit Plasmaunterstützung (PEALD) für die atomlagengenaue Abscheidung dünner Filme von Metallen, Metall-Oxiden und Nitriden sowie optional -Sulfiden definierter Stöchiometrie für Anwendungen als Tunnelbarrieren oder Elektroden in memristiven und kryoelektronischen Bauelementen, als Ferroelektrika und als 2D-Materialien sowie zur wissenschaftlichen Untersuchung der Abscheidemechanismen und zur Prozessentwicklung.