schnelles Wärmebehandlungssystem (Rapid Thermal Processor)

Description

Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu ist vorgesehen, ein flexibel einsetzbarer Rapid Thermal Processor (RTP) für die thermische Prozessierung von Proben von Chipgröße bis 4“-Wafer mit verschiedenen Materialsystemen aus dem Bereich der Halbleiter-, sowie Mikro- und Nanotechnologie zu beschaffen, mit dem definierte thermische Behandlungen möglich sind. Dabei sollen Temperaturen bis mindestens 1300 °C und verschiedene Atmosphären, unter denen diese Behandlung durchführt wird, möglich sein. Lot 1: Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu ist vorgesehen, ein flexibel einsetzbarer Rapid Thermal Processor (RTP) für die thermische Prozessierung von Proben von Chipgröße bis 4“-Wafer mit verschiedenen Materialsystemen aus dem Bereich der Halbleiter-, sowie Mikro- und Nanotechnologie zu beschaffen, mit dem definierte thermische Behandlungen möglich sind. Dabei sollen Temperaturen bis mindestens 1300 °C und verschiedene Atmosphären, unter denen diese Behandlung durchführt wird, möglich sein. Eine Anzahlung nach Beauftragung ist möglich, eine Absicherung dieser Zahlung durch eine unbefristete Bankbürgschaft wird allerdings vorausgesetzt. Zahlungsplan: 30% nach Beauftragung und Vorlage einer Bankbürgschaft durch den Auftragnehmer 60% nach Lieferung an die TU Ilmenau 10% nach erfolgreicher Installation, Einweisung und Abnahme oder 90% nach Beauftragung und Vorlage einer Bankbürgschaft durch den Auftragnehmer 10% nach erfolgreicher Installation, Einweisung und Abnahme