Dostawa urządzenia do trawienia plazmowego (RIE) w plazmie o podwyższonej gęstości (ICP) z modułem do trawienia warstw atomowych (ALE)

Description

Przedmiotem zamówienia jest dostawa, instalacja, uruchomienie, testowanie fabrycznie nowego urządzenia do trawienia plazmowego (RIE, reactive ion etching) w plazmie o podwyższonej gęstości (ICP, inductively coupled plasma) z modułem do trawienia warstw atomowych (ALE, atomic layer etching) wraz z obsługą gwarancyjną, serwisową, dokumentacją i szkoleniami. Lot 1: Przedmiotem zamówienia jest dostawa, instalacja, uruchomienie, testowanie fabrycznie nowego urządzenia do trawienia plazmowego (RIE, reactive ion etching) w plazmie o podwyższonej gęstości (ICP, inductively coupled plasma) z modułem do trawienia warstw atomowych (ALE, atomic layer etching) wraz z obsługą gwarancyjną, serwisową, dokumentacją i szkoleniami. Zamawiający działając w oparciu o art. 139 ustawy Pzp może najpierw dokonać badania i oceny ofert, a następnie dokonać kwalifikacji podmiotowej wykonawcy, którego oferta została najwyżej oceniona, w zakresie braku podstaw wykluczenia oraz spełniania warunków udziału w postępowaniu,. Przewiduje się udzielenie zaliczki, szczegółowe informacje w projektowanych postanowieniach umowy.