Industrial process control equipment

Description

Předmětem zakázky je dodávka: a) Mikrovlnného plazmatického depozičního systému s fokusovanou plazmou. Zařízení musí být nové, plně funkční a musí obsahovat všechny potřebné součásti. Bude používáno pro chemickou depozici z par za asistence mikrovlnně buzeného plazmatu tenkých diamantových vrstev na rovinných substrátech v průměru do 4 palců z plazmatu bohatého na vodík; b) PVD & PE CVD depozičního zařízení. Zařízení musí být nové, plně funkční a musí obsahovat všechny potřebné součásti. Bude používáno pro přípravu kompozitních materiálů pomocí PVD v kombinaci s CVD a klastrovým zdrojem pro nanášení tenkých vrstev a nanočástic na bázi uhlíku na ploché substráty o průměru do 4 palců. Předmětem zakázky je dodávka: a) Mikrovlnného plazmatického depozičního systému s fokusovanou plazmou. Zařízení musí být nové, plně funkční a musí obsahovat všechny potřebné součásti. Bude používáno pro chemickou depozici z par za asistence mikrovlnně buzeného plazmatu tenkých diamantových vrstev na rovinných substrátech v průměru do 4 palců z plazmatu bohatého na vodík; b) PVD & PE CVD depozičního zařízení. Zařízení musí být nové, plně funkční a musí obsahovat všechny potřebné součásti. Bude používáno pro přípravu kompozitních materiálů pomocí PVD v kombinaci s CVD a klastrovým zdrojem pro nanášení tenkých vrstev a nanočástic na bázi uhlíku na ploché substráty o průměru do 4 palců.