Industrial process control equipment

Description

L’apparato MBE mira a potenziare e espandere la deposizione di strati ultra-sottili di diversi materiali con l’obiettivo progettuale di crescere strati bidimensionali e di incapsularli in configurazioni stabili integrando la infrastruttura di deposizione già presente all’interno del laboratorio della sede di Agrate Brianza del CNR-IMM. Nello specifico, l’apparato MBE dovrà permettere la deposizione in condizioni di ultra alto vuoto di: i) strati bidimensionali (spessore nanometrico o sub-nanometrico) di diversi elementi fra cui silicio, stagno, germanio, fosforo; ii) di metalli e/o ossidi (spessore dai 10 ai 100 nanometri) da utilizzare come substrati per gli strati descritti in i); di strati protettivi di ossido di pochi nanometri di spessore. Oltre alla deposizione di materiali, l’apparato MBE sarà inoltre dedicato alla preparazione di substrati e superfici e caratterizzazione analitica di questi campioni prodotti secondo le specifiche richieste. L’apparato MBE mira a potenziare e espandere la deposizione di strati ultra-sottili di diversi materiali con l’obiettivo progettuale di crescere strati bidimensionali e di incapsularli in configurazioni stabili integrando la infrastruttura di deposizione già presente all’interno del laboratorio della sede di Agrate Brianza del CNR-IMM. Nello specifico, l’apparato MBE dovrà permettere la deposizione in condizioni di ultra alto vuoto di: i) strati bidimensionali (spessore nanometrico o sub-nanometrico) di diversi elementi fra cui silicio, stagno, germanio, fosforo; ii) di metalli e/o ossidi (spessore dai 10 ai 100 nanometri) da utilizzare come substrati per gli strati descritti in i); di strati protettivi di ossido di pochi nanometri di spessore. Oltre alla deposizione di materiali, l’apparato MBE sarà inoltre dedicato alla preparazione di substrati e superfici e caratterizzazione analitica di questi campioni prodotti secondo le specifiche richieste.